等离子技术抛光过程中理想的抛光温度是多少？
抛光液的温度越低，材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为：温度越低，抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多，相同条件下生成的气体越少，包围在零件周围的混合气体层越薄，而在压强和电压不变的情况下，气体变薄就意味着电场强度增大，导致碰撞电离系数显著增大，虽然总的碰撞距离减小，但仍然有更多的电子冲击到工件表面，材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下，混合气体层较薄，也意味着气体层不太稳定，等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大，同时气体层薄也意味着系统的电阻减小，电流增大，且电流值大幅度变化，常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象，这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。
随着抛光液温度的提高，等离子纳米抛光过程开始稳定，90-95℃属于理想加工温度范围，在这一范围内材料的去除速度虽然不是最快，却更容易获得更好的表面质量。温度继续升高将导致抛光液气化增强，混合气层温度升高厚度增加，加工时间也相应延长。当抛光液温度达到95-99℃时，等离子加工过程转到泡沫状态。抛光液沸腾，蒸气气层失去自身最初的尺寸和形状，整个零件处于连续移动的泡沫中，其电阻与等离子理想加工状态的气层电阻值相比大大提高，此时被加工表面电流也会减小。
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